RIGAKU日本理学|北崎国际贸易（北京）有限公司

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RIGAKU理学X 射线膜厚和密度测量系统 RIGAKU理学X 射线膜厚和密度测量系统 XHEMIS EX-2000，非破坏性薄膜厚度和密度测量系统新的 XRR 光学元件和新开发的信号处理实现了高吞吐量和高动态范围通过采用新开发的带有高速探测器的光学系统此外，通过应用特殊的信号处理，可以获得清晰、高动态范围的频谱，而且噪声很小。查看详情
RIGAKU理学在线双头微点XRF无损晶圆检测 RIGAKU理学在线双头微点XRF无损晶圆检测ONYX3200，在线双头微点 XRF无损晶圆检测和计量双 X 射线源（多毛细管/单色）*大300 mm 晶圆查看详情
RIGAKU理学混合XRF和光学测量FAB工具 RIGAKU理学混合XRF和光学测量FAB工具ONYX 3000，能量色散 X 射线荧光光谱仪（ED-XRF）能够以非破坏性、非接触的方式同时分析 300 mm 和 200 mm 晶圆上各种薄膜的厚度和成分。查看详情
RIGAKU理学分析痕量从Na到U 的荧光光谱仪 RIGAKU理学分析痕量从Na到U 的荧光光谱仪TXRF-V310,采用转子式高功率 X 射线发生器和新设计的入射 X 射线单色器。过渡金属 LLD 10 采用直接 TXRF 测量方法8 原子/厘米2 达到水平。在封闭 X 射线管测量时间的 1/3 内即可实现相同的精度，从而实现高通量。查看详情
RIGAKU理学全内反射 X 射线荧光光谱仪 RIGAKU理学全内反射 X 射线荧光光谱仪TXRF 310Fab,采用转子式高功率 X 射线发生器和新设计的入射 X 射线单色器。过渡金属 LLD 10 采用直接 TXRF 测量方法8 原子/厘米2达到水平。在封闭 X 射线管测量时间的 1/3 内即可实现相同的精度，从而实现高通量。查看详情
RIGAKU理学全内反射X 射线荧光光谱仪 RIGAKU理学全内反射X 射线荧光光谱仪TXRF 3760,对晶圆表面的污染进行无损、非接触式和高灵敏度分析转子式高功率 X 射线发生器和新设计的入射 X 射线单色器过渡金属 LLD 10 采用直接 TXRF 测量方法8 原子/厘米2达到水平。在封闭 X 射线管测量时间的 1/3 内即可实现相同的精度，从而实现高通量查看详情
RIGAKU日本理学X 射线光谱仪WaferX 310 RIGAKU日本理学X 射线光谱仪WaferX 310 WD-XRF ,这是一种波长色散 X 射线荧光光谱仪（WD-XRF），可以无损、非接触地同时分析 300 mm 和 200 mm 晶圆上各种薄膜的厚度和成分查看详情
RIGAKU日本理学晶圆磁盘分析仪 RIGAKU日本理学晶圆磁盘分析仪3650,这是一种波长色散 X 射线荧光光谱仪（WD-XRF），可以以非破坏性、非接触的方式同时分析*大 ~200 mm 晶圆上各种薄膜的厚度和成分查看详情