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产品名称：RIGAKU理学X 射线膜厚和密度测量系统
产品型号： XHEMIS EX-2000
产品厂商：RIGAKU日本理学
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简单介绍：

RIGAKU理学X 射线膜厚和密度测量系统 XHEMIS EX-2000，非破坏性薄膜厚度和密度测量系统新的 XRR 光学元件和新开发的信号处理实现了高吞吐量和高动态范围通过采用新开发的带有高速探测器的光学系统此外，通过应用特殊的信号处理，可以获得清晰、高动态范围的频谱，而且噪声很小。

详情介绍：

XHEMIS EX-2000

X 射线膜厚和密度测量系统 XHEMIS EX-2000

使用 X 射线荧光（XRF）和 X 射线反射（XRR）的非接触式、非破坏性薄膜厚度和密度测量系统

新的 XRR 光学元件和新开发的信号处理实现了高吞吐量和高动态范围

通过采用新开发的带有高速探测器的光学系统，实现了高通量 XRR 测量（15-25 WPH）。此外，通过应用特殊的信号处理，可以获得清晰、高动态范围的频谱，而且噪声很小。

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XHEMIS EX-2000 概述

・通过调整新方法的角度缩短了对准时间。

使用 X 射线反射进行角度调整可提供快速准确的样品倾斜校正。

・评估晶片内表面分布

在对薄膜厚度的面内分布进行 X 射线分析时，晶圆高度调整很重要。配备适用于各种薄膜类型的高速 Z 轴对准功能，可实现高精度晶圆表面映射测量。

・应用

FEOL： CoSix， NiSix， SiGe， High-κ film， Al...
BEOL：阻挡金属、Ta/TaN、Ti/TiN、Cu 种子、Cu 电镀、W...
它用于各种工艺，例如各种类型和厚度的膜。

・全自动设备日常管理功能 AutoCal

为了获得准确稳定的 XRR 和 XRF 测量分析值，有必要定期检查和控制光学系统、X 射线源和探测器。该设备配备了“AutoCal”功能，可以完全自动执行这些日常管理任务。减少作员的工作量。

- 用户友好的作屏幕

它基于其他型号也使用的成熟软件实现了多种功能，并配备了不需要复杂分析的新型 XRR 薄膜厚度和密度分析软件，可以通过简单的作执行从测量到分析的所有作。

・支持 C-to-C 自动输送

兼容 200mm~100mm 晶圆的开放盒的自动转移。（可选）
- 支持在线通信功能SECS
可与主机通信。与各种 CIM/FA 兼容。（可选）

XHEMIS EX-2000 特性

这是一种非接触式、非破坏性的薄膜厚度和密度测量设备，使用 X 射线荧光（XRF）和 X 射线反射（XRR）测量晶圆上的各种薄膜。 XRR 和 XRF 的结合可实现广泛的薄膜厚度测量，而无需参考材料。新的光学系统和获得**的噪声信号处理可实现高通量、高动态范围的 XRR 测量，并与多种胶片类型兼容。除了兼容自动搬运机器人和 AutoCal（全自动设备管理功能）外，它还配备了简单的分析软件等用户友好的软件，可用于从研发到质量控制的各种用途。

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