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  • ULVAC爱发科金属膜用EB枪 EGL-35M型EB枪是基于ULVAC多年的技术积蓄和实际成果,为提高性能和可靠性而开发。 查看详情
  • ULVAC爱发科金属膜用EB枪 EGL-35型EB枪是基于ULVAC多年的技术积蓄和实际成果,为提高性能和可靠性而开发。 拥有*大输入功率10kW的坩埚。 由于坩埚容量大,每个40cc,因此可以进行厚膜的高速蒸发。 查看详情
  • ULVAC爱发科金属膜用EB枪 EGL-103S型EB枪是基于ULVAC多年的技术积蓄和实际成果,为提高性能和可靠性而开发。 拥有*大输入功率6kW的直动型3点切换式蒸发舟。 坩埚容量为10cc3个,适用于超高真空的实验、小规模生产。 查看详情
  • ULVAC爱发科金属膜用EB枪 EGN系列是以提高可维护性为主轴新开发的金属蒸发用EB枪。 采用平顶结构,减少了EB枪的着膜面积,实现了易维护性。 查看详情
  • ULVAC爱发科金属膜用EB枪 EGN系列是以提高可维护性为主轴新开发的金属蒸发用EB枪。 采用平顶结构,减少了EB枪的着膜面积,实现了易维护性。 查看详情
  • ULVAC爱发科RF电源选配件 该装置是高频电源的外部振荡源 。额定信号可以在13.56MHz的单频下输出。 另外,本装置还配备了1~4个BNC输出端口,*多可同步4台电源进行同相的高频振荡。 ※ 连接电源外部输入端子应为50Ω,10mW以上100mW以下即可工作。 查看详情
  • ULVAC爱发科RF电源选配件 该系统是为射频溅射、等离子体CVD、刻蚀等等离子产生用电源的相位调整而设计的。 本系统可控制在13.56MHz运行的多台RF电源的输出相位 。 查看详情
  • ULVAC爱发科RF电源选配件 该系统是为射频溅射、等离子体CVD、刻蚀等等离子产生用电源的相位调整而设计的。 本系统可控制在13.56MHz运行的多台RF电源的输出相位 。 查看详情
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