产品名称：TSI美国自动加载 20 nm 颗粒沉积系统2333

TSI美国自动加载 20 nm 颗粒沉积系统2333

TSI美国自动加载 20 nm 颗粒沉积系统2333

这种手动加载的颗粒沉积系统沉积 PSL 和 SiO2小至 20 nm 的球体。通过生成大量高质量的定制污染标准品，轻松、自信、高效地校准和鉴定您的缺陷检测工具。手动加载允许沉积各种衬底，包括 150 mm、200 mm 和 300 mm 晶圆，支持您的所有晶圆计量应用并提高产品良率。

产品详情

2300G3M 型颗粒沉积系统为在裸片、薄膜和图案晶圆上沉积粒度标准品（包括 MSP 纳米二氧化硅™尺寸标准品）提供了**的性能。2300G3M 使用先进的颗粒生成和差分迁移率分析仪 （DMA） 技术，以亚纳米级的可重复性和 SI 可追溯性控制沉积颗粒的模态直径，适用于半导体制造中要求苛刻的计量应用。该色谱柱可容纳 16 个颗粒悬浮液，DMA 模式作范围为 20 nm 至 2 μm，几乎任何检测工具的校准曲线都可以使用单一自动配方通过沉积生成。

应用

• 可追溯的检测系统校准
• 符合传统晶圆污染标准
• 来料裸晶圆检验/鉴定
• 确定专有薄膜的检测灵敏度
• 橡皮布薄膜监测
• 检测工具开发和认证
• 工艺工具鉴定、工艺学习和监控

特点和优势

• 完整（毯状）、点、弧和环沉积图案
• 沉积颗粒粒度的**配方控制
• 纳米颗粒雾化，用于产生 20 nm 的清洁颗粒
• DMA 尺寸分类，用于窄尺寸分布选择
• *大限度地减少颗粒簇和残留颗粒
• 沉积图案宽度的配方控制
• 配方、沉积和悬浮液分析报告
• 人体工程学设计
• 全球服务和支持