THERMOCERA日本石墨烯/碳纳米管合成器 nanoCVD-8N 北崎国际贸易（北京）有限公司

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产品名称：THERMOCERA日本石墨烯/碳纳米管合成器
产品型号： nanoCVD-8N
产品厂商：THERMOCERA日本K.K
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简单介绍：

一批只需30分钟，即可轻松合成上等石墨烯和碳纳米管

详情介绍：

CVD（化学气相沉积）

CVD法是一种稳定的技术，已经建立起来用于多种用途，是未来考虑石墨烯和碳纳米管大规模合成时*现实的方法。制造商 Moorfield 与英国国家研究所合作，反复验证了这种沉积实验设备。在研究机构的合作下，已经验证了利用拉曼光谱、SEM、AFM等分析数据可以生产出高质量的石墨烯和CNT Mr./Ms.。

冷壁CVD

采用反应快、重现性优异的冷壁/高温样品加热台（热板）。设备更小，加工时间缩短，操作优良，可创建和储存30种合成配方。除了标准系统配置外，还可以根据要求定制设备配置。 nanoCVD系统是一种小型实验装置，具有无限潜力，可以为基础研发领域做出贡献。

特征

石墨烯和碳纳米管（SWNT）沉积实验可以很容易地进行，而无需使用大型设备。
1批只需30分钟！
采用冷壁式高效、高精度的过程控制
快速升温：RT→1100°C/约3分钟
高性能机器，具有高精度的温度流量控制和出色的重现性
简单易用！通过 5 英寸触摸屏进行操作和配方管理
*多可以创建和保存 30 个配方，30 个合成程序步骤。
标配专用软件，输出为CSV文件，在PC上记录数据
USB线连接，PC端创建配方→上传到设备

外形图

主要技术指标

A. 主要规格

1.反应室室	不锈钢SUS304检漏
2.加热阶段	陶瓷
3. 对应样本量	20 x 40毫米
4.加热加热器	高纯石墨加热器 Max1050°C
5.温度控制	包括K型热电偶标准（安装在加热阶段下方）

B. 过程控制设备规格

1.气体控制	质量流量控制器 x 3 （Ar， H2， CH4）
2.压力控制	20托尔 F.S.
3.真空排气	带 RV3 的 Edwards 旋转泵（3m³/hr）
4.操作面板	前置5英寸触摸屏（欧姆龙制造）
5.风冷	用于机柜内部冷却的冷却风扇
6.控制系统	PLC自动过程控制

C. 软件（标准附件）

1. nanoCVD软件	包括标准（安装石墨烯的标准程序）
2. 接口	USB 2.0 连接
3. 设置数量	*多可编程和保存 30 个配方，30 个步骤

D. 进气口连接规格

1. 工艺气体	3 x Ar、H2、CH4 1/4“ 世伟洛克管连接
2.载气	N2，或氩φ6mm推锁管连接 x 1

E. **装置

1.过热	由加热级安装热电偶控制
2. 机柜内部过热	从内部热开关
3.气压异常	来自质量流量控制器
4.降低真空度	来自真空传感器

F. 公用事业

权力	AC200V 单相 50/60Hz 13A
1. 工艺气体压力	*大 30psi 200sccm
2.载气压力	60-80磅/平方英寸

G. 尺寸和重量

1. 外形尺寸	405mm（宽） x 415mm（深） x 280mm（高）
2.重量	约27kg

nanoCVD-8G（石墨烯）

纳米CVD-8N（碳纳米管）

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产品名称：THERMOCERA日本石墨烯/碳纳米管合成器