SHINKUU日本真空设备锇涂层装置 HPC-20 北崎国际贸易（北京）有限公司

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产品名称：SHINKUU日本真空设备锇涂层装置
产品型号：HPC-20
产品厂商：SHINKUU真空设备
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简单介绍：

用于SEM和TEM的锇涂层设备。由于粒径细小且周转性好，因此适用于高倍率观察应用和形状复杂的样品。超薄的Os导电涂层还用于EBSD、俄歇和X射线分析。

详情介绍：

设备概述
该装置是一种用于电子显微镜观察的锇涂层装置。配备触摸屏和定序器控制，任何人都可以轻松执行样品的全自动导电沉积。使用空心阴极样品架进行低压放电涂层，因此对样品几乎没有损坏。由于在空心阴极中产生均匀的高密度等离子体，因此无论样品的高度或材料如何，在放置在圆柱体中的样品表面都会形成厚度均匀的Os膜。由于只有必要量的锇气体被注入空心阴极，因此消耗量很低，未反应的气体被吸附并用活性炭捕集器去除，以抑制有害气体释放到大气中。

主要产品规格

项目	规范
权力	AC100V（单相100V15A）1个单元，3芯插头，带地线（3m）
设备大小	宽 470 毫米，深 400 毫米，高 412 毫米（重量 25 公斤）
旋转泵	宽 120mm，长 290mm，高 250mm 抽速 30l/min 特殊油旋转泵（重量11Kg）
试样室尺寸	内径 120 mm，高度 77 mm（由硬玻璃制成）
电极	阳极：Φ110mm 阴极：内径Φ108mm，深度35mm （基于我们**的空心阴极方法）
试样载物台尺寸	Φ98mm，浮动安装在空心阴极
可加载样本量	Φ98 mm，高度 45 mm，包括样品架
锇安瓿标准品	厚度：Φ12.8mm以下高度：直径型60mm以下、安瓿型65mm以下
OsO4 消耗量（使用次数）	每1克安瓿约100次（在标准操作条件下）（使用次数因使用频率和沉积时间而异）
双语显示功能	日英文显示切换功能

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产品名称：SHINKUU日本真空设备 锇涂层装置

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