长处

• 测量质量数范围 1~200 amu
• 在反应过程中进行长期稳定的测量
• 通信接口，以太网
• 采用带磁场的 Claude 离子源软
  电离可减少气体解离，并防止由于电离室中的热反应而分解和吸附，这是高度敏感的。
• 紧凑的流路控制阀：
  缩短了从工艺腔室到离子源的距离，实现了快速响应消解
• 10^-6 至 13 kPa 在较宽的压力范围内进行测量（通过孔口选择）
• 无需 PC 即可进行测量
• 一键式功能（人人轻松，无需复杂作）
• 连接到传感器单元时，可以进行高达 120°C 的高温烘烤。
• 离子源、二次电子倍增管的预防性维护和分析管的可追溯性功能（正在申请**）
• 可进行氦气泄漏测试、空气泄漏测试、粘附测试
• 内置软件（兼容 Windows 8/10/11）

用

CVD、ALD 和蚀刻设备

• 过程中的反应气体监测
• 蚀刻和清洁过程的端点监控
• 残余气体测量
• 泄漏测试

规范