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ULVAC爱发科反应式过程气体监测仪RGM2-201F

日期:2025-07-06 20:26
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摘要:ULVAC爱发科反应式过程气体监测仪RGM2-201F

ULVAC爱发科反应式过程气体监测仪RGM2-201F

ULVAC爱发科反应式过程气体监测仪RGM2-201F


CVD/ALD/Eetche 工艺型号:RGM2-201F

爱发科

型号:RGM2-201F 的介绍、购买和考虑

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荣获 2023 年日本真空工业协会“真空组件大奖”


反应式过程气体监测仪 Qulee RGM2-201F 是一款带有差压排气系统的过程监测仪,适用于“型号:Qulee”的蚀刻、CVD 和 ALD 设备等反应过程。 ULVAC 独特的离子源和排气系统结构对反应气体具有出色的耐腐蚀性,可实现长期稳定测量。

长处

  • 排气系统和控制系统是集成的,可以垂直安装,并且世界上*小的占地面积使得即使在空间有限的生产线上也可以监测反应气体。
  • 在维护期间更换耗材套件的速度得到了显着提高,两名工人的 120 分钟工作可以由一个人在 10 分钟内完成。
  • 双灯丝即使在**根灯丝断裂的情况下也能在不停止生产线的情况下进**体分析。
  • 触摸面板用于实时检查状态。
  • 从启动到测量的作只能在计算机上完成。
  • 得益于我们专有的带磁体的闭式离子源,即使在反应过程中,也可以进行长期稳定的测量。
  • 电离室气体解离少,灵敏度高,仅使用法拉第杯即可实现高灵敏度气体分析。
  • 紧凑的流路控制阀,可防止热反应引起的分解和吸附。
  • 缩短了从工艺室到离子源的距离,并且可以快速响应分解。
  • 加强预防性维护功能 离子源和二次电子倍增管的
    预防性维护 安装
    分析管的可追溯性功能(**号 5016031)
  • 标准软件与 Windows 8/10/11 兼容。

CVD、ALD 和蚀刻设备

  • 过程中的反应气体监测
  • 蚀刻清洗过程的端点监控
  • 残余气体测量

规范

传感器

质量数范围 (amu) 1~200
分辨率 (m/ΔM) M/ΔM=1M(10%P.H.)
探测器 法拉第杯 (FC)
灵敏度 (A/Pa) *1 1e-5A/Pa(引入直接孔口连接,Ie = 50uA) N2
气体 = 5e-4Pa 在 Ee 50V
*小感应分压 (Pa) *1 E-10Pa (EE50V, IE500uA)
总压力测量功能 *1
全压力测量范围 *1 1E-3 ~ E-6 PA 单元
离子源 带磁体闭式离子源
灯丝 Ir/Y2O3 2(其中 1 个是备用的)
电离电压 (EE; eV) 20~70eV (Ie50uA 推荐 50V 设置)
发射电流 (IE;uA) 50uA/500uA(EE50V,过程测量推荐 50uA)

*1 备用灯丝 (FIL2) 不适用。

差速器排气系统

连接法兰 VCR1/2“ 螺母等效
规格 压力 可在 0.5~30Pa/10~500Pa 中选择
涡轮分子泵 UTM70B(70升/秒)
Foreline 泵
前级液进口:KF16
保证前级压力:500Pa 或更低 用于前级压力检查的
皮拉尼真空计:SW100-A
用于设备压力监测的真空计 电容压力计 型号: CCMT

效用

电源电压 AC100~120V/6A,AC200~220V/3A
压缩空气 干燥 N2:0.4MPa

其他

质量 20公斤
控制单元 触控面板
块式加热装置 110°C±10°C

选择

分析管 RGM-AN201F 系列 用于 RGM2-201F
离子源 RGM-IS01F 系列 用于 RGM2-201F
耗材套件 RGM-FL01F 系列 用于 RGM2-201F
RGM-OF030F 系列 RGM2-201F 用 (工作压力范围: 0.5~30Pa)
RGM-OF010F 系列 RGM2-201F 用 (工作压力范围 : 10~500Pa)



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