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新闻详情
ULVAC爱发科反应式过程气体监测仪RGM2-201F
日期:2025-07-06 20:26
浏览次数:4
摘要:ULVAC爱发科反应式过程气体监测仪RGM2-201F
ULVAC爱发科反应式过程气体监测仪RGM2-201F
ULVAC爱发科反应式过程气体监测仪RGM2-201F
CVD/ALD/Eetche 工艺型号:RGM2-201F
爱发科

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型号:RGM2-201F 的介绍、购买和考虑
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型号:RGM2-201F 支持页面
荣获 2023 年日本真空工业协会“真空组件大奖”
反应式过程气体监测仪 Qulee RGM2-201F 是一款带有差压排气系统的过程监测仪,适用于“型号:Qulee”的蚀刻、CVD 和 ALD 设备等反应过程。 ULVAC 独特的离子源和排气系统结构对反应气体具有出色的耐腐蚀性,可实现长期稳定测量。
长处
- 排气系统和控制系统是集成的,可以垂直安装,并且世界上*小的占地面积使得即使在空间有限的生产线上也可以监测反应气体。
- 在维护期间更换耗材套件的速度得到了显着提高,两名工人的 120 分钟工作可以由一个人在 10 分钟内完成。
- 双灯丝即使在**根灯丝断裂的情况下也能在不停止生产线的情况下进**体分析。
- 触摸面板用于实时检查状态。
- 从启动到测量的作只能在计算机上完成。
- 得益于我们专有的带磁体的闭式离子源,即使在反应过程中,也可以进行长期稳定的测量。
- 电离室气体解离少,灵敏度高,仅使用法拉第杯即可实现高灵敏度气体分析。
- 紧凑的流路控制阀,可防止热反应引起的分解和吸附。
- 缩短了从工艺室到离子源的距离,并且可以快速响应分解。
-
加强预防性维护功能 离子源和二次电子倍增管的
预防性维护 安装
分析管的可追溯性功能(**号 5016031) - 标准软件与 Windows 8/10/11 兼容。
用
CVD、ALD 和蚀刻设备
-
过程中的反应气体监测
-
蚀刻清洗过程的端点监控
器 - 残余气体测量
规范
传感器
质量数范围 (amu) | 1~200 | |
分辨率 (m/ΔM) | M/ΔM=1M(10%P.H.) | |
探测器 | 法拉第杯 (FC) | |
灵敏度 (A/Pa) *1 |
1e-5A/Pa(引入直接孔口连接,Ie = 50uA) N2 气体 = 5e-4Pa 在 Ee 50V |
|
*小感应分压 (Pa) *1 | E-10Pa (EE50V, IE500uA) | |
总压力测量功能 *1 | 和 | |
全压力测量范围 *1 | 1E-3 ~ E-6 PA 单元 | |
离子源 | 带磁体闭式离子源 | |
灯丝 | Ir/Y2O3 2(其中 1 个是备用的) | |
电离电压 (EE; eV) | 20~70eV (Ie50uA 推荐 50V 设置) | |
发射电流 (IE;uA) | 50uA/500uA(EE50V,过程测量推荐 50uA) |
*1 备用灯丝 (FIL2) 不适用。
差速器排气系统
连接法兰 | VCR1/2“ 螺母等效 | |
规格 压力 | 可在 0.5~30Pa/10~500Pa 中选择 | |
涡轮分子泵 | UTM70B(70升/秒) | |
Foreline 泵 |
无 前级液进口:KF16 保证前级压力:500Pa 或更低 用于前级压力检查的 皮拉尼真空计:SW100-A |
|
用于设备压力监测的真空计 | 电容压力计 “型号: CCMT” |
效用
电源电压 | AC100~120V/6A,AC200~220V/3A | |
压缩空气 | 干燥 N2:0.4MPa |
其他
质量 | 20公斤 | |
控制单元 | 触控面板 | |
块式加热装置 | 110°C±10°C |
选择
分析管 | RGM-AN201F 系列 | 用于 RGM2-201F |
离子源 | RGM-IS01F 系列 | 用于 RGM2-201F |
耗材套件 | RGM-FL01F 系列 | 用于 RGM2-201F |
孔 | RGM-OF030F 系列 | RGM2-201F 用 (工作压力范围: 0.5~30Pa) |
孔 | RGM-OF010F 系列 | RGM2-201F 用 (工作压力范围 : 10~500Pa) |