产品名称：TSI美国 纳米颗粒液体颗粒监测仪

TSI美国进口 纳米颗粒液体颗粒监测仪 NANO-LPM10

TSI美国进口 纳米颗粒液体颗粒监测仪 NANO-LPM10

Nano LPM 系统
型号：纳米 LPM10在半导体超纯水 （UPW） 中提供真正的 10 nm 纳米颗粒检测。
产品详情
TSI Nano LPM™ 系统（纳米颗粒液体颗粒监测仪）用于检测半导体超纯水 （UPW） 中的真正 10 纳米 （nm） 纳米颗粒。Nano LPM 提供对 UPW 质量的持续监控，使工程和质量控制人员能够自信地做出实时、数据驱动的决策。
应对 UPW 监测挑战
超纯水用于清洁晶圆和设备，以及在半导体工艺中蚀刻和去除污染物，以确保高质量生产。小至 10 nm 的颗粒会影响产量和产品质量，因此纳米颗粒的实时检测至关重要。行业挑战在于，由于颗粒材料的折射率问题和微气泡的干扰，传统的基于光学的技术难以检测 20 nm 以下的任何纳米颗粒，这可能导致读数错误和不一致。TSI 的纳米 LPM™ 系统通过可靠地检测低至 10 nm 的纳米颗粒来克服这些挑战，提供一致、实时的洞察力，这对于检测 UPW 质量的任何变化至关重要。
**技术 — 雾化颗粒
Nano LPM 通过在 10 nm 处提供可靠、一致和准确的颗粒监测数据，为 UPW 纳米颗粒监测树立了新标准。Nano LPM™ 系统使用获得**的粒子发生器，在干燥留下固体纳米颗粒的液滴之前，该发生器会对 UPW 进行雾化处理。然后使用专为洁净室环境设计的纳米 LPM 水基冷凝粒子计数器 （CPC） 分析纳米颗粒。
主要优势
TSI Nano LPM™ 系统提供了多种**功能，以应对半导体制造商面临的挑战：
使半导体制造商能够在产品质量受到影响之前采取主动的数据驱动型行动，确保低至 10 nm 的可靠检测
使用更能代表 UPW 污染的二氧化硅尺寸标准品进行校准
使用多台仪器时可重复的 10 nm 测量 — 对于维护过程控制和在多个位置表征过程至关重要
确保可靠的性能 — 由于相对折射率的差异，或气泡和光学表面污染造成的错误计数，颗粒检测不会产生不确定性。
专为半导体和洁净室环境而设计 — Nano LPM CPC 利用 UPW 作为工作流体，确保其不是污染源
使用机载进样口对仪器灵敏度和响应率进行独特的现场验证
安装位置
查看应用说明 CC-133：TSI Nano LPM 系统的 UPW 监测位置（查看美国 |查看 A4）了解半导体制造厂 （FAB） 中安装的各种监控位置，以使用 Nano LPM™ 系统增强过程控制。