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产品详情
简单介绍：
MILA-5000系列具有红外金像炉的特点，即高速加热、冷却、清洁加热，是一款小型、低成本的产品，可在任何气氛下加热，集成了温度控制器和这是一种红外灯加热装置，
可以通过USB连接在计算机上进行加热操作，并且可以轻松管理数据。
详情介绍：
- 铁电薄膜的晶体退火
- 离子注入后扩散退火、氧化膜形成退火
- 硅及化合物晶片的烧结及合金化处理
- 玻璃基板均热退火
- 热循环、热冲击、热疲劳测试
- 用于程序升温剥离试验的加热炉
- 催化效果测试
- 选择任何气氛：真空、气体、气流或空气
- **的温度控制
- 桌面式和紧凑型设计
- 您可以轻松设置温度程序并从计算机输入外部信号。
- 加热过程中的温度数据可在电脑上显示
| 模型 |
MILA-5000-PF （均匀加热型） |
MILA-5000-PN （高温型） |
MILA-5000UHV （高温/高真空型） |
|---|---|---|---|
| 温度范围 | 室温～800℃ | 室温～1200℃ | 室温～1000℃ |
| 样本量 | 正方形 20mm x 厚度 2mm | ||
| 加热气氛 | 在空气、低真空、惰性气体中 | 在空气、高真空、惰性气体中 | |
| 过程压力 | 10Pa至大气压（使用RP *1，室温，无负载） | 10 -4 Pa～大气压（使用TMP *1、室温、无负载） | |
*1 真空排气装置是可选的。
*2 加热温度根据加热物体的红外线反射/吸收、热容量和材料而变化。
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