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简单介绍：
可以低成本实现80℃/s的高速退火。
该设备为红外灯设备，采用抛物面反射红外灯对4-6英寸晶圆进行均匀加热。它能够进行高速热处理，可以方便地用作热处理工艺研究和开发的装置。我们可以在单个半导体工艺中进行硅化物形成和氧化膜形成，以及化合物半导体的工艺退火。
详情介绍：
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|---|---|
| 样本量 | 标准1个φ6英寸晶圆（可选φ4英寸或φ5英寸） |
| 气氛 | 气体中、气流中、大气中、真空中（可选配真空排气装置） |
| 加热方式 | 采用抛物面反射红外灯的上部单面加热方式（也可采用下部加热方式） |
| *大升温速率 | 80℃/秒 |
| 浸泡精度 | ⊿t＝10℃ at 800℃内部保持N 2 |
| 控制传感器 | 标准热电偶 JIS“K”（插入 SiC 涂层碳基座）、高温计（可选） |
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