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- DSK电通荧光灯
- DNL**灯
- ORIHARA折原应力仪
- NIKKATO日陶研磨球
- NDK日本电色雾度计
- DRY-CABI德瑞卡比防潮...
产品详情
简单介绍：
高性能射频/直流磁控溅射系统，
连续多层薄膜，双源同时沉积，APC自动压力控制
详情介绍：
高性能射频/直流磁控溅射系统。 虽然体积小，但即使是追求高性能且不影响薄膜质量的用户，例如一般金属薄膜、绝缘体和化合物，它也是一种设备。 它还适用于具有多达 3 个源极阴极、多层连续薄膜和共沉积（***射频和直流组合）的应用。 还有多种选择，例如加热器、旋转和提升、磁性材料阴极以及使用电容压力计进行高精度压力控制。
出色的基本性能
- **真空 5x10-5 Pascal
- SUS304 高真空室
- 快速真空到达（约 10 分钟至 1x10-3Pa）
- 薄膜均匀性：±3%（绝缘膜），±5%（金属膜）
高性能系统
- 7 英寸触摸屏，用于集中管理所有操作、薄膜沉积控制和数据管理
- 自动连续多层沉积控制
- 共沉积（*RF-DC和DC-DC双源同步沉积）
- APC控制（PID自动压力控制）
- PLC自动排序（吸尘和排气）操作
很多选择
- 电路板旋转、上/下和下降
- PCB加热器 500°C
- MFC x 3（Ar、O2、N2）反应溅射
- 用于磁性材料的高强度磁铁选项
- 快速排气（至少 6 分钟）
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