THERMOCERA日本晶圆级石墨烯合成器 nanoCVD-WPG 北崎国际贸易（北京）有限公司

显示全部 >>

产品详情

所在位置: 首页> 产品目录> THERMOCERA日本K.K>

查看大图

产品名称：THERMOCERA日本晶圆级石墨烯合成器
产品型号：nanoCVD-WPG
产品厂商：THERMOCERA日本K.K
产品文档：

你添加了1件商品查看购物车

简单介绍：

晶圆尺寸的热CVD/等离子CVD系统基板尺寸：Φ3inch或Φ4inch ◉ 型号。 nanoCVD-WG （热CVD） ◉ 型号。 nanoCVD-WGP（等离子CVD）

详情介绍：

nanoCVD-WG“CVD法”（化学气相沉积）

CVD法是一种稳定的技术，已经建立起来用于多种用途，是未来考虑石墨烯和碳纳米管大规模合成时*现实的方法。开发商Moorfield Nanotechnology与英国国家研究所合作，反复验证了这种沉积实验装置。在研究机构的合作下，已经验证了利用拉曼光谱、SEM、AFM等分析数据可以生产出高质量的石墨烯和CNT Mr./Ms.。

nanoCVD-WPG“等离子体增强型CVD”

反应迅速，杂质被抑制。它是一种更快、高通量的CVD合成方法，可在等离子体的帮助下获得清洁、高质量的石墨烯。

特征

紧凑型设计：590 （W） x 590 （D） x 1050 （H） mm
Φ3英寸或Φ4英寸晶圆级石墨烯合成
13.56MHz RF 150W 等离子电源（典型值）
PCB加热阶段 *大1100°C
冷壁法热CVD
全自动PLC自动顺序控制
用户友好的 7 英寸触摸屏 HMI
多沉积配方配准，手动/自动操作

参考规格

*本设备为定制产品。我们将在讨论规格后提出建议。
以下设备配置仅供参考。

A. 主要规格

1.反应室室	适用于 MiniLab-026 26l 容积 SUS304 水冷式
2.加热阶段	陶瓷（氧化铝或氮化铝，BN）
3. 对应样本量	Φ3英寸或Φ4英寸
4.加热阶段（带隔热罩）	C/C复合或SiC涂层加热器 *高1100°C
5.温度控制	包括K型热电偶标准（安装在加热阶段下方）

B. 过程控制设备规格

1.气体控制	多达 4 个质量流量控制器（Ar、H2、CH4 等）
2.压力控制	20托尔 F.S.
3.真空排气	Edwards 涡轮分子泵 nEXT85D 包括 Edwards 干涡旋泵 nXDS10i（10m³/hr）
4.操作面板	前置 7 英寸触摸屏
5.风冷	用于机柜内部冷却的冷却风扇
6.控制系统	PLC自动过程控制

C. 软件（标准附件）

4. 用于 Windows PC 连接的 IntelliLink 远程软件
1. IntelliDep nanoCVD 软件	包括标准（安装石墨烯的标准程序）
2. 接口	USB 2.0 连接
3. 设置数量	*多可编程和保存 30 个配方，30 个步骤

D. 进气口连接规格

1. 工艺气体	3 x Ar、H2、CH4 1/4“ 世伟洛克管连接
2.载气	N2，或氩φ6mm推锁管连接 x 1

E. **装置

1.过热	由加热级安装热电偶控制
2. 机柜内部过热	从内部热开关
3.气压异常	来自质量流量控制器
4.降低真空度	来自真空传感器

F. 公用事业

权力	AC200V 单相 50/60Hz 13A
1. 工艺气体压力	*大 30psi 200sccm
2.载气压力	60-80磅/平方英寸

产品留言

标题

联系人

联系电话

内容

验证码

点击换一张

注：1.可以使用快捷键Alt+S或Ctrl+Enter发送信息!
2.如有必要,请您留下您的详细联系方式!

产品名称：THERMOCERA日本晶圆级石墨烯合成器