ULVAC爱发科电弧等离子体蒸发源 APS-1 北崎国际贸易（北京）有限公司

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产品名称：ULVAC爱发科电弧等离子体蒸发源
产品型号：APS-1
产品厂商：ULVAC爱发科
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简单介绍：

同时蒸发不同的"蒸发材料"。通过将本蒸发源增设在既存的电弧等离子法纳米粒子形成装置APD系列和手持式真空腔体中，可以同时蒸发不同的"蒸发材料"，生成具有新特性的材料。

详情介绍：

特点

纳米颗粒的尺寸比传统的湿法更均匀，因此能够生产高活性催化剂
纳米颗粒尺寸约1.5nm至6nm可选
通过改变环境可以容易地产生氧化物和氮化物
如果有与ICF 070（VG 50）相当的法兰，无论那个方向都可以安装
无需水冷设备，方便维护

用途

多个蒸发源化合物的生成
添加到现有的真空室

规格

目标大小	Φ 10mm × L 17 mm
基板尺寸	Φ 2 英寸（Φ 50 毫米）
沉积速率	0.01 纳米/秒 ~ 0.3 纳米/秒 ^*1
膜厚均匀性	Fe： < ± 10 % （Φ 20 mm 面积) ^*1
可用于沉积的材料	导电材料^*2

*1 从目标到基板的距离：80mm
*2 目标的比电阻：0.01Ωcm以下

电弧等离子体源（APS）示意图

效用

系统图

1. 冷凝箱：W110 x D320 x H200 （mm）
2.真空室内APS主体：Φ34 x L200 （mm）
3.电源：W200 x D360 x H200 （mm）
4.控制器：W240 x D400 x H200 （mm）

※将电源单元和控制器放在机架上。

APS制备的纳米颗粒的TEM图像

（左起）

支撑在
碳粉上分散良好的Pt纳米颗粒的透射电镜图像。
基板上 Pt nono 粒子的 TEM 图像随着电弧等离子体射程数的增加，纳米粒子的尺寸变大。
铂薄膜
的TEM图像极薄的铂膜是由纳米颗粒堆叠形成的。

安装APS的沉积系统照片

示例 1 ：带 APS
的溅射系统

示例 2 ：具有一个 APS 的电弧等离子体沉积系统（APD-1P）

表1 检查沉积的元素

Lanthanoid

Actinoid

Checked Limited in use

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产品名称：ULVAC爱发科电弧等离子体蒸发源

特点

用途

规格

电弧等离子体源（APS）示意图

效用

系统图

APS制备的纳米颗粒的TEM图像

安装APS的沉积系统照片

表1 检查沉积的元素