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- ORIHARA折原应力仪
- NIKKATO日陶研磨球
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产品详情
简单介绍：
膜厚测量装置UTS-2000应用*新的光谱分析技术，非破坏性、非接触式，可以高速、高精度地测量外延膜、基板厚度、蚀刻残留等膜厚。还可以使用标准自动台来评估设备表面内的膜厚度分布。
详情介绍：
测量范围宽
可以在 0.25 至 750 µm 的宽测量范围内测量薄膜厚度（基材厚度）。
高精度测量
高精度干涉仪和高通量光学系统可实现膜厚数据的高精度测量。
高效测量
与自动运输设备兼容。
与工艺使用所需的 FOUP 开启器和多装载端口兼容
它还与 FOUP（由存储晶圆的 SEMI 标准化）和多装载端口（用于在 FOUP 中装载和卸载晶圆的接口）兼容。
符合SEMI标准
可以在 0.25 至 750 µm 的宽测量范围内测量薄膜厚度（基材厚度）。
高精度测量
高精度干涉仪和高通量光学系统可实现膜厚数据的高精度测量。
高效测量
与自动运输设备兼容。
与工艺使用所需的 FOUP 开启器和多装载端口兼容
它还与 FOUP（由存储晶圆的 SEMI 标准化）和多装载端口（用于在 FOUP 中装载和卸载晶圆的接口）兼容。
符合SEMI标准
兼容SEMI标准（半导体设备和材料国际标准）
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