SHINKUU真空设备磁控溅射和亲水处理 VES-10 北崎国际贸易（北京）有限公司

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产品名称：SHINKUU真空设备磁控溅射和亲水处理
产品型号：VES-10
产品厂商：SHINKUU真空设备
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简单介绍：

本设备有两个独立的腔室，每个腔室具有碳气相沉积、磁控溅射和亲水处理等功能。一台设备配备了我们的 VC-100S、MSP-1S 和 PIB-10 三种型号的性能。两根排气管由外部旋转泵排气管切换。此外，每个腔室可以独立抽真空并释放大气，腔室可以保持真空。

详情介绍：

用
碳气相沉积 这是一种用于
TEM、SEM、X射线分析等的碳膜生产设备。它用于防止树脂包埋样品的充电。

离子溅射 这是一种用于
SEM观察的贵金属薄膜涂层专用设备。进行贵金属涂层以防止SEM样品充电，提高二次电子生成效率。除了磁控管靶电极的低压放电外，样品架还由浮动系统制成，以减少由于电子束流入而造成的样品损坏。

亲水处理
用于透射电子显微镜的网格网、火棉胶支撑膜、碳支撑膜等金刚石刀具的亲水处理，以及用于清洗油污和油渍。
通过交流放电将等离子体离子照射到样品表面。它破坏样品表面的化学键并形成官能团。因此，活性样品表面与水分子之间的化学键得到促进，并变得亲水。
此外，还可以破坏油脂污渍等化学键，获得去除污渍的效果。

辐照强度（SOFT/HARD）可以切换。

主要产品规格

项目	规范
权力	AC100V（单相100V15A）3P插头，带接地1件
旋转泵	抽水速度：50l/min 重量：14.6kg
设备大小	宽 400mm，深 360mm，底座高 280mm 碳腔高度 +185mm 离子腔室高度 +101mm （设备重量：29Kg）
碳气相沉积侧规格
试样室尺寸	内径 120 mm，高度 140 mm（硬玻璃）
气相沉积源 - 样品台间距	直径50mm（浮动方式）
电极与样品的间距	可在45mm~75mm范围内调节
试样载物台尺寸	Φ100毫米
可加载样本量	Φ98 mm，*大样品高度 40 mm
气相沉积电源	烘烤、排气、蒸发。每个固定电压的 3 级切换，预设为*佳电压
离子室侧面规格
试样室尺寸	内径 120 mm，高度 65 mm（硬玻璃）
电极-样品台间距	35mm固定
试样底座尺寸	Φ50mm（浮动方式）
溅射靶电极	内置永磁体的磁控管型靶电极
目标金属规格	Φ51mm，厚度0.1mm Pt，Pt-Pd，Au，Au-Pd，Ag
溅射电源	DC500V，0~50mA（可变电阻调节）
亲水处理电极	Φ50mm，SUS靶材
亲水处理电源	软：450V，10~20mA 硬：550V，20~30mA （可选切换）

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