SHINKUU真空设备|北崎国际贸易（北京）有限公司

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产品列表

SHINKUU真空设备碳沉积设备该设备使用旋转泵进行碳沉积，同时使用 Pirany 真空计监测真空度。通过不断蒸发一定量的碳，可以实现高度可重复的碳沉积。请使用专用的 SLC-30 替换芯作为碳源。查看详情
SHINKUU真空设备替换芯型碳 SLC-30 以字母 SLC 命名，代表无烟碳。顾名思义，它是一种可更换的碳，不会因烘烤而冒烟，不含油或粘合剂成分。查看详情
SHINKUU真空设备清洁高真空沉积系统样品制备的下一步从清洁的高真空开始。这是一种使用涡轮分子泵（TMP）排气系统的清洁高真空沉积系统。高真空有助于提高薄膜纯度和密度。如果按下触摸面板上的 EVAC START 按钮，系统会自动执行从预排气到高真空排气的状态。它是一种**设计，可通过触摸屏+程序控制防止操作错误。查看详情
SHINKUU真空设备型台式高真空沉积系统 VE-2013 是一种简化的真空沉积系统，继承了 VE-2030（由我们公司制造）的概念。紧凑的外壳，外壳中内置 TMP。由于它是桌面类型，因此不会占用太多空间。 RP 是落地式安装的。查看详情
SHINKUU真空设备磁控降低污染物附着力该设备将 TEM 支架存放在无油真空下。通过使用该设备，可以显着降低污染物的附着力。它存放在单独的真空室中，可以单独进出。 TEM 支架端口是根据您使用的 TEM 支架制造的。查看详情
SHINKUU真空设备自动涂装功能凯焊机配备大面积样品台，支持12英寸晶圆。磁控管系统用于减少涂层电压为500V或更低时的离子损伤。自动涂装功能从脱气到常压气体引入和涂装都是全自动的。它配备了一个向前滑动的样品台，便于装卸样品。通过附着Ag靶材，可以很容易地对透明薄膜进行光泽处理。查看详情
SHINKUU真空设备自动涂装功能凯焊机配备大面积样品台，支持12英寸晶圆。磁控管系统用于减少涂层电压为500V或更低时的离子损伤。自动涂装功能从脱气到常压气体引入和涂装都是全自动的。它配备了一个向前滑动的样品台，便于装卸样品。通过附着Ag靶材，可以很容易地对透明薄膜进行光泽处理。查看详情
SHINKUU日本真空设备铂金属涂层装置该装置是带有磁控管目标的金属涂层装置。它用于 8 英寸晶圆等大面积样品和大量样品的同步处理。 MSP-8in的目标电极沿目标金属表面形成多同心磁场，通过将电子捕获在该磁场中，提高等离子体离子密度以溅射目标金属。磁场的强度结构使得粘附的金属膜的厚度从目标的中心到外围是均匀的。查看详情