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文章详情
代理KYOWA共和KFV氢气环境用箔式应变片
日期：2026-11-10 11:18
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摘要：可在高压氢气环境下稳定测量应变的箔式应变片
可在高压氢气环境下稳定测量应变的箔式应变片
传统箔式应变片的金属电阻箔由于受到氢气的影响， 电阻值会发生变化，因此无法进行稳定的测量。
特点
而KFV应变片因氢气而引起的电阻变化微小，可实现稳定测量。
