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- AITEC艾泰克
- KITZ北泽
- ONOSOKKI小野传感器
- SAKAGUCHI坂口电热加...
产品详情
简单介绍：
可在紫外和可见（250至800nm）波长区域中测量椭圆参数 可分析纳米级多层薄膜的厚度 可以通过超过400ch的多通道光谱快速测量Ellipso光谱 通过可变反射角测量，可详细分析...
详情介绍：
特点
● 可在紫外和可见（250至800nm）波长区域中测量椭圆参数
● 可分析纳米级多层薄膜的厚度
● 可以通过超过400ch的多通道光谱快速测量Ellipso光谱
● 通过可变反射角测量，可详细分析薄膜
● 通过创建光学常数数据库和追加菜单注册功能，增强操作便利性
● 通过层膜贴合分析的光学常数测量可控制膜厚度/膜质量
测量项目
测量椭圆参数（TANψ，COSΔ）
光学常数（n：折射率，k：消光系数）分析
薄膜厚度分析
用途
半导体晶圆
栅氧化膜，氮化膜
SiO2，SixOy，SiN，SiON，SiNx，Al2O3，SiNxOy，poly-Si，ZnSe，BPSG，TiN
光学常数（波长色散）
复合半导体
AlxGa（1-x）多层膜、非晶硅
FPD
取向膜
等离子显示器用ITO、MgO等
各种新材料
DLC（类金刚石碳）、超导薄膜、磁头薄膜
光学薄膜
TiO2，SiO2多层膜、防反射膜、反射膜
光刻领域
g线（436nm）、h线（405nm）、i线（365nm）和KrF（248nm）等波长的n、k评估
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