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- AND艾安得
- JIKCO吉高浓度计
- IIJIMA饭岛酸素计
- SPAIR日信工具
- Axometrics美国
- ASAHI旭精工
- DSK电通荧光灯
- DNL**灯
- ORIHARA折原应力仪
产品详情
简单介绍：
石墨烯和TMDC等2D应用
抵抗去除PPA、PPMA等。
在聚四氟乙烯基板等上进行无损伤蚀刻
详情介绍：
软蚀刻技术
采用 <30W 低功耗射频刻蚀刻实现精细蚀刻控制 <b12>在低功耗控制区域可实现控制精度为 10 mW
的稳定
等离子体控制 软蚀刻由曼彻斯特大学的 A. A. Smith 进行，他因“石墨烯新碳材料的**实验”而获得 2010 年诺贝尔物理学奖。 该技术是与Geim博士领导的石墨烯研究团队合作开发的。
自采用Moorfield的石墨烯合成设备和蚀刻阶段以来，该研究所已经连续运行了三个以上的单元，nanoETCH和nanoCVD已成为研究小组发展不可或缺的工具。 此外，nanoCVD和nanoETC已交付给NGI（国家石墨烯研究所）、GEIC（曼彻斯特格拉普宁工程**中心）等欧洲国家研究机构，是广泛应用于二维研究的高可靠性器件。
用
- 2D（过渡金属卡贡奈，材料转移后的石墨烯剥离）表面改性
- 去除聚合物抗蚀剂，如PMMA和PPA
- 易受损坏的基材（如聚四氟乙烯基材）的表面改性和蚀刻
- h-BN 侧壁蚀刻*
- SiO2 蚀刻*
- *需要“氟化物供气模块”选项
参考规格
A. 主要规格
| 1. 晶圆尺寸 |
Φ3 英寸（标准）或 Φ4 英寸，*高 Φ6 英寸 |
|---|---|
| 2. 工艺气体 |
多达 3 个 MFC 控件（Ar、O2 标准、N2 选项） |
| 3.真空排气系统 |
涡轮分子泵、旋转泵、宽范围仪表 |
| 4.*大真空度 |
5 x 10-5 帕斯卡 |
| 5. 选项 |
APC工艺压力自动控制 直流电源装置 氟化物供气模块（SF6、CHF3） 干式涡旋泵 |
B. 公用事业
| 1.电源 |
200V 单相 20A |
|---|---|
| 2. 工艺气体 |
25psi （0.17Mpa） 99.99% 推荐 |
| 3.排气 |
5-6psi （34-41kpa） |
| 4.冷却水 |
1L/min，4bar（400kpa），18-20°C |
| 5.压缩空气 |
60-80psi（413-550Kpa） |
C. 软件（标准附件）
| 1. IntelliDep nanoETCH软件 | |
|---|---|
| 2. 设置数量 |
*多可编程和保存 30 个配方，30 个步骤 |
| 3. 用于 Windows PC 连接的 IntelliLink 远程软件 |
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