产品名称：ULVAC爱发科溅射设备

特点

• 绝缘，金属，半导体材料的溅射设备。
• 主泵使用油扩散泵。
• 可以在Φ80mm×1阴极上单层成膜。

  规格

  型式		RFS-201
  真空性能	极限压力	6.6×10-４Pa
  	排气时间	6.6×10-３Pa/5min
  真空槽	真空槽	金属腔 （200mm(W)×250mm(D)×150mm(H))
  	阴极	Φ80mm、1元
  	基板推荐尺寸	Φ80mm×t1-5mm
  	有効成膜范围	50mm
  	成膜速度	SiO2 SiO2, 成膜20nm/min以上
  	膜厚分布	SiO2 SiO2, 成膜50mm范围±8％以内
  	基板加热温度	Max 350℃
  	基板／电极间距	30～50mm(可変）
  排气系统	主泵	油扩散泵（水冷） 150L/sec
  	液体氮气捕集器	选项
  	補助泵	油回转泵 100L/min
  	油雾捕集器	油雾捕集器 OMT-100A
  操作系统	主阀	插板阀
  	補助阀	三通阀
  	自动泄露阀	选项
  	操作	手动
  控制系统	RF电源	Max 300W (0～300Ｗ可変）
  	皮拉尼真空计	G-TRAN
  	电离真空计	选项
  设置	*大尺寸	764mm（W）×723mm（D）×1648mm（H）
  	质量	260kg

  效用

  型式	RFS-201
  所要电气量	200V 单相 50/60Hz 2.8kVA
  接地端子	A种 （接地抵抗値 10Ω以下）
  所要水量	5.0 L／min　(水温:25℃以下、水圧:200～300kPa（表压）)
  组合连接 （电源）	橡胶绝缘软电缆（带R2-5压接端子）　4m
  组合连接 （接地）	接地电缆（铜板）　4m
  组合连接（水）	涤纶软管（内径9mm×外径15mm）、4m（2本）

  尺寸图

  

  真空槽内部构成

  基本构成

  

  [1]	罩子
  [2]	阴极
  [3]	阳极
  [4]	快门
  [5]	电流导入端子
  [6]	热电偶导入端子
  [7]	真空计端口
  [8]	支架
  [9]	背板
  [10]	靶材
  [11]	准备端口
  [12]	正门

• 通过传统溅射，溅射速度可达到20nm/min（SiO2）

  支架图

  [標準]

  

  ※我们将根据您的研发目的进行定制。

  可选配件

  ●液体氮气捕集器	●电离真空计
  ●磁控电极	●内置捕集器（OMI-100）
  ●涡轮分子泵	●DC电源
  ●导入气体2系统，3系统	●油回转泵自动泄露阀