产品详情
简单介绍：
能够捕获硅片8英寸和6英寸表面的挥发性成分（有机污染物）。 （SW-8400IIIDF）
详情介绍：
SW-8400III.DF / SW-12400III.DF 硅片输出气体集热器
特点：
能够捕获硅片8英寸和6英寸表面的挥发性成分（有机污染物）。 （SW-8400IIIDF）
它可以收集硅片12英寸表面的挥发性成分（有机污染物）。 （SW-12400IIIDF）
由于采用捕获方法，因此没有死体积，并且可以检测到痕量成分。
从正面产生的气体被可靠地收集起来，从背面产生的气体通过真空泵完全释放。
晶圆直接加热，*高温度为500°C。 （烘烤时）
采用时序控制（触摸屏）。 更易于操作。
PAT（10 mL 内部容积，含 Tenax GR 吸附剂）标配除气。 可选地，它还与每个制造商的收集管兼容。
超温预防装置、门联锁机构、急停开关、漏水传感器（可选）等**措施已到位。
可选地，可以对样品管进行多级升温收集、分体式收集和电子冷却（在收集时）。
在这种方法中，硅晶圆（SW）的表面覆盖着顶板，仅收集表面的除气。
吹扫气体通过预热管路后，沿着烤盘（钟形顶板）的外壁流动，烤盘以钟形固定在烘箱顶部，从外周引导穿过SW面到中心。
SW的背面由真空泵吸入，因此SW背面产生的气体可以可靠地排出。
设备规格
| SW-8400III.DF | |
| 方法 | 贝尔法 |
| 可收集的晶圆尺寸 | 8 英寸和 6 英寸、5 英寸及以下需要夹具（12 英寸用于 12400III） |
| 烘箱材料 | 不锈钢 （SUS316L） |
| 烘箱加热方式 | 顶板和底板独立加热系统 |
| 烘箱工作温度 | 正常使用：400°C（*高烘烤温度：500°C） |
| 烤箱冷却 | 冷却水循环器 |
| 保温管 | 内表面惰性处理 |
| 吹扫气体 | 通常为氮气，*大流速 500 mL/min |
| PAT冷却(オプション） | 电子冷却 |
| 急停开关 | 红色，蘑菇形 |
| 保障 | 门联锁机构 |
| 烤箱开启和关闭 | 电机驱动 |
| 车身尺寸 | 1140（宽）×1106（高）×750（深）毫米 |
| 权力 | 单相AC200V，20A/AC200V，30A |
| 质量 | 280公斤 |
